GA-5000DN型 氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)
產(chǎn)品概述
GA-5000DN型 氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)
產(chǎn)品概述:
GA-5000DN氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)(NH3)基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預(yù)處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測氣體經(jīng)過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進(jìn)入高溫氣體分析模塊(TDLAS技術(shù))分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路,低溫冷凝水析出溶解NH3導(dǎo)致的測量精度偏低,原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導(dǎo)致無法測量等技術(shù)難題。
GA-5000DN型 氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)
技術(shù)規(guī)格:
測量技術(shù):可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)
量程范圍:0~20μmol/mol(可定制)
示值誤差:≤±1%F.S.
零點(diǎn)漂移:≤±1%F.S./7d
量程漂移:≤±1%F.S./7d
響應(yīng)時(shí)間:≤120s
模擬接口:2路,4-20mA 輸入
通訊接口:RS485/GPRS
供電:(220±15%)VAC,5000W
尺寸: 600mm×285mm×1200mm
產(chǎn)品特點(diǎn):
“單線光譜”吸收技術(shù)避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小
220℃以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶及水份溶解吸收
自動化程度高、維護(hù)量小
結(jié)構(gòu)緊湊、便于安裝
產(chǎn)品應(yīng)用:
適用于包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監(jiān)測和過程控制
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